uv光解除臭的原理及***點(diǎn)

 

 

uv光解除臭適用于電鍍生產(chǎn)、表面處理、單晶硅酸洗、半導(dǎo)體清洗、電子制造、漆包線、噴漆、涂裝生產(chǎn)等行業(yè)和***域。氣體凈化塔是一種兩相逆流填料吸收塔。廢氣從廢氣處理塔體下的入口沿切線方向進(jìn)入凈化塔。在風(fēng)機(jī)的動(dòng)力作用下，廢氣迅速充滿進(jìn)氣口段，然后通過(guò)等流量段均勻上升至***填料吸收段。在填料表面，氣相中的酸(或堿)物質(zhì)與液相中的堿(或酸)物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生的物質(zhì)(主要為可溶性酸(或堿))隨吸附劑流入下儲(chǔ)槽。部分吸收的酸(或堿)氣體繼續(xù)上升到***個(gè)噴霧階段。嗎?

 

 

 

uv光解除臭適用于電鍍生產(chǎn)、表面處理、單晶硅酸洗、半導(dǎo)體清洗、電子制造、漆包線、噴漆、涂裝生產(chǎn)等行業(yè)和***域。

 

uv光解除臭工作原理

 

氣體凈化塔:兩相逆流填料吸收塔。廢氣從廢氣處理塔體下的入口沿切線方向進(jìn)入凈化塔。在風(fēng)機(jī)的動(dòng)力作用下，廢氣迅速充滿進(jìn)氣口段，然后通過(guò)等流量段均勻上升至***填料吸收段。在填料表面，氣相中的酸(或堿)物質(zhì)與液相中的堿(或酸)物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生的物質(zhì)(主要為可溶性酸(或堿))隨吸附劑流入下儲(chǔ)槽。部分吸收的酸(或堿)氣體繼續(xù)上升到***個(gè)噴霧階段。在噴霧段，吸收劑液體從均勻布的噴嘴中高速噴出，形成無(wú)數(shù)微小的霧滴，這些霧滴充分混合并與氣體接觸，繼續(xù)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。然后酸性(堿性)氣體上升到二次填料段和噴霧段進(jìn)行與***階段類似的吸收過(guò)程。***二段的密度與***段不同，注入壓力不同，吸附酸(堿)氣的濃度范圍也不同。噴霧段與填料段的接觸過(guò)程也是傳熱傳質(zhì)過(guò)程。通過(guò)控制空塔的速度和停留時(shí)間，保證了該過(guò)程的充分和穩(wěn)定。廢氣處理塔的上部為defog段，去除夾在氣體中的吸收性液體液滴。處理后的潔凈空氣從uv光解除臭上端的排氣管排放到***氣中。

 

 

 

 

氣體凈化塔的性能***點(diǎn)

 

1、廢氣凈化設(shè)備適用范圍廣:化工、輕工、印染、醫(yī)藥、鋼鐵、機(jī)械、電子、儀器儀表、電鍍等工業(yè)部門生產(chǎn)過(guò)程中排放的有機(jī)廢氣、硫酸、硝酸、鹽酸、氫氟酸,如廢氣和硫氧化物(襪),氮氧化物(NOx),氯化碳氧化物(CO、CO2),氰化物(HCN),和其他酸性氣體,利用工業(yè)廢氣凈化設(shè)備,可以得到令人滿意的結(jié)果。

 

2、廢氣凈化效率高:酸(堿)霧uv光解除臭使用兩個(gè)反向噴,填料比表面積***,取決于氣體的測(cè)試比率,以確保穩(wěn)定的性能、酸(或堿)的濃度廢氣凈化效率可達(dá)85% ~ 95%。

 

3.低電阻的廢氣處理設(shè)備:的基礎(chǔ)上確保足夠的氣液接觸面積,工業(yè)uv光解除臭選擇包裝類型和結(jié)構(gòu)形式與***的空氣動(dòng)力***性,以便設(shè)備電阻不超過(guò)額定風(fēng)量40毫米水柱,這是***的***家之一,在中***各種填料吸收塔的阻力。這對(duì)于使用耐腐蝕的低壓通風(fēng)機(jī)有很***的***處。

 

4、廢氣處理設(shè)備占地面積小，工業(yè)uv光解除臭采用PP、FRP等材料，將塔體、吸收式液體罐、循環(huán)泵、液體管路系統(tǒng)組合成一個(gè)完整的o